8. Penipisan lapisan ozon disebabkan gas ....
A. CFC
C. O2
B. 03
D. HCI![]()
Penjelasan : CFC merupakan buatan manusia yang meningkatkan kadar penipisan ozon. CFC adalah suatu senyawa organik yang hanya mengandung karbon, klorin, dan fluorin yang diproduksi sebagai derivat volatil dari metana, etana, dan propana.
A. CFC
C. O2
B. 03
D. HCI
Jawaban:
A. CFC
Penjelasan:
.................….……
Jawaban : A. CFCPenjelasan : CFC merupakan buatan manusia yang meningkatkan kadar penipisan ozon. CFC adalah suatu senyawa organik yang hanya mengandung karbon, klorin, dan fluorin yang diproduksi sebagai derivat volatil dari metana, etana, dan propana.
